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-产品中心-Proxima 系列-Proxima NTP - SiN沉积立式炉
Proxima NTP  - SiN沉积立式炉
Proxima NTP - SiN沉积立式炉    
Proxima 是由稷以科技自主开发的炉管式薄膜沉积设备。主要应用于存储芯片 NAND,DRAM和 logic IC 的薄膜沉积。 Proxima 具有高产能、出色的膜厚控制、极佳的厚度稳定性、优秀的台阶覆盖率、 自动清洗等功能。
  • 产品介绍
适用领域

300 mm IC

运行特点

.  支持快速升降温

   Rapid temperature ramping up and ramping down


.  热SiN和等离子SiN两种模式供选择

   Thermal SiN and plasma SiNare available


.  更高的单位时间产出

   Higher throughput


. 出色的厚度控制和膜厚稳定性

   Good control and stability of thickness 

  

.  出色的厚度均匀性

   Good WIW / WTW / RTR uniformity


.  优异的台阶覆盖率

   Excellent step coverage


.  自动清洗功能,高生产率

   Dry clean function & high productivity

技术参数

 Wafer size:12 inch


 Film: SiN


 Application: hard mask, spacer, channel, etch stop etc.