Proxima NTP - SiN沉积立式炉
Proxima 是由稷以科技自主开发的炉管式薄膜沉积设备。主要应用于存储芯片 NAND，DRAM和 logic IC 的薄膜沉积。
Proxima 具有高产能、出色的膜厚控制、极佳的厚度稳定性、优秀的台阶覆盖率、 自动清洗等功能。
- 产品介绍
适用领域
300 mm IC
运行特点
. 支持快速升降温
Rapid temperature ramping up and ramping down
. 热SiN和等离子SiN两种模式供选择
Thermal SiN and plasma SiNare available
. 更高的单位时间产出
Higher throughput
. 出色的厚度控制和膜厚稳定性
Good control and stability of thickness
. 出色的厚度均匀性
Good WIW / WTW / RTR uniformity
. 优异的台阶覆盖率
Excellent step coverage
. 自动清洗功能，高生产率
Dry clean function & high productivity
技术参数
. Wafer size:12 inch
. Film: SiN
. Application: hard mask, spacer, channel, etch stop etc.